2018年6月12日，中国工程物理研究院成都材料研究所对我司生产的CVD-1200系统验收完毕。

我司生产的CVD-1200系统由开启式单（双）温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度数字质量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。主要用于高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。

2018年6月12日，我司售后人员对其安装调试，并现场对使用人员讲解了主要部件的功能及使用，关拍照留念。